为什么要使用扩散炉？

        扩散炉是具有圆柱形加热室的热处理单元，其可以水平或垂直定向。由于等距的表面散热，这使得圆形工件能够以出色的热均匀性进行加工。它们还可以在部分真空条件下运行，以确保整个操作过程中的大气控制。这对于确保气相扩散到固态半导体中的最佳条件而不引入不希望的杂质是至关重要的。

        扩散是分子从高浓度区域移动到低浓度区域的过程。它通常发生在日常生活中的液体，气体和固体之内和之间。该过程由扩散炉开发，其提高工件的温度并引入气态元素以促进固态扩散。

        当物质的分子与原子水平的主体固体混合时，发生固态扩散。这种扩散机制多年来一直是科学上的好奇心，但后来成为半导体制造业的一个不可或缺的过程。

        当在扩散炉中处理半导体晶片时，将其加热到设定点温度并经受称为气相的气体分子流。该相在原子水平扩散到固体基质中，该过程称为掺杂。

        像硅（S）这样的半导体在绝缘体和导体之间显示出独特的电子特性。引入掺杂剂以调制那些电子特性并使它们适合于半导体器件制造。它们扩散到晶格中并固定在原子结构中，产生过量或不足的电子或电子空穴。这是改变半导体晶片的导电性的原因。

        诸如磷（P）的元素通常用于增加晶片原子结构中的自由电子的数量，从而产生所谓的n型半导体。相反，镓（Ga）可用于引入电子受体，其产生额外的电子 - 空穴能级。这是一种n型半导体。

        n型和p型半导体之间的功能差异是无数的，目前使用的化学变化和作为本征半导体的掺杂剂的探索也是如此。如果您想了解更多关于扩散炉如何用于电子制造的信息，请关注我们的官方网站。